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品牌文化 | BRAND STATEMENT

中频磁控溅射电源

用途:

可适用于PVD、CVD技术以金属、半导体靶材制备高密度、高硬度、高亮度、高透明度的单质、化合物膜层


●特点:

1.采用先进的逆变技术和IGBT功率开关器件
2.采用PWM控制技术、恒流特性好、电源控制精确
3.自动恒流输出,不随气压变化,提高沉积速率,工艺重复性好
4.克服靶中毒,抑制靶材弧光放电及抗短路功能,内置电子电抗,具有极佳的负载匹配能力
5.LED数码电流、电压显示、清晰直观
6.轻巧、高效、节能。同等功率比可控硅电源节约电能40%以上
7.模块化设计、全系列产品风冷长期稳定性好,可N+1备份、保障安全生产
8.可根据用户量身定做设计制造特种电源系统
 

●主要技术项目:

型号Type

PLD—10kw

PLD—20kw

PLD—30kw

PLD—40kw 

项目Item

输入电源电压频率(V、Hz)三相四线

AC380+N

AC380+N

AC380+N

AC380+N

+15%,50/60

+15%,50/60

+15%,50/60

+15%,50/60

输出电流调节范围(A)

10

20

30

40

稳流精度

≤1%

≤1%

≤1%

1%

额定输出电压(ACV)

1000

1000

1000

1000

负载持续率(%)

85

85

85

85

重量(KG)

40

40

40

80

外形尺寸(mm)

575(D)×480(W)×250(H)

绝缘等级

B

B

B

B

效率(%)

90

90

90

90

功率因数COSΦ

0.93

0.93

0.93

0.93

外壳防护等级

Ip21

Ip21

Ip21

Ip21

工作模式

恒压、恒流、恒功率可任意选择,常规恒流输出

外部接口

本系列产品,均可设微机式PLC控制



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